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Official data from INPI

DERIVADOS DE OXIMA HALOGENADOS E O USO DOS MESMOS COMO ÁCIDOS LATENTES

ArquivadaInvention PatentPCT · EP2004050096

Application data

Number

PI0407605

Type

Invention Patent

Filing

02/09/2004

Publication

02/14/2006

PCT

EP2004050096

Progress at the INPI

  1. Filing02/09/04
  2. Publication02/14/06
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/09/2004 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/14/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Ciba Specialty Chemicals Holding Inc

CH

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Inventors

A. M. (pessoa física)

JP

H. Y. (pessoa física)

JP

P. M. (pessoa física)

CH

T. H. (pessoa física)

CH

T. A. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

EP

03 405103.7 · 02/19/2003

EP

03 405130.0 · 02/27/2003

EP

03 405432.0 · 06/17/2003

Abstract

"DERIVADOS DE OXIMA HALOGENADOS E O USO DOS MESMOS COMO ÁCIDOS LATENTES". Compostos da fórmula I or II nas quais R~ 1~, é C~ 1~-C~ 10~haloalquilsulfonila, halobenzenossulfonila, C~ 2~- C~ 10~haloalcanoíla, halobenzoíla; R~ 2~ é halogênio or C~ 1~-C~ 10-~ haloalquila; Ar~ 1~, is fenila, bifenilila, fluorenila, naftila, antracila, fenantrila, or heteroarila, todos os quais estão opcionalmente substituídos; Ar ~ 1~ é, por exemplo, fenileno, naftileno, difenileno, heteroarileno, óxidifenileno, fenilenoD-D~ 1~-D-fenileno ou -Ar'~ 1~-A~ 1~-Y~ 1~-A~ 1~-Ar'~ 1~-; sendo que esses radicais estão opcionalmente substituídos; Ar'~ 1~ é fenileno, naftileno, antracileno, fenantrileno ou heteroarileno, todos opcionalmente substituídos; A~ 1~ é, por exemplo, uma ligação direta, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; Y é, entre outros, C~ 1~-C~ 18~alquileno; X é halogênio, D é, por exemplo, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; D~ 1~, é, entre outros, C~ 1~C~ 18~alquileno; são particularmente apropriados como ácidos fotolatentes em tecnologia de resistores de ArF.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

04/14/2009

RPI 1997

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

09/02/2008

RPI 1965

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/14/2006

RPI 1832

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