Concessão da patente
#16.1
03/13/2018
RPI 2462
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Official data from INPI
ELETRODO POROSO DE DIAMANTE SINTÉTICO A PARTIR DE SUBSTRATOS DE CARBONO VÍTREO
ConcedidaInvention Patent
Application data
Number
PI0402061Type
Invention Patent
Filing
05/17/2004
Publication
01/03/2006
Progress at the INPI
- Filing05/17/04
- Publication01/03/06
- Examination
- Allowance01/23/18
- Grant03/13/18
- In force05/17/24
The patent was granted on 03/13/2018 and is in force until 05/17/2024. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:05/17/2024
Latest action published by the INPI: 03/13/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Centro Técnico Aeroespacial (CTA)
SP, BR
Departamento de Ciência e Tecnologia Aeroespacial (DCTA)
SP, BR
Instituto de Aeronáutica e Espaço - IAE
SP, BR
Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais - INPE
SP, BR
Inventors
E. C. (pessoa física)
BR
M. R. (pessoa física)
BR
N. F. (pessoa física)
BR
V. A. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
"MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE ELETRODO POROSO DE DIAMANTE SINTÉTICO A PARTIR DE SUBSTRATOS DE CARBONO VÍTREO". Compreendendo dois substratos carbonosos condutores, o primeiro do tipo carbono vítreo reticulado-CVR, poroso apresentando porções externa e interna, com ou sem membrana de interligação, chamado eletrodo tridimensional. O segundo do tipo carbono vítreo monolítico, CVM, ambos revestidos por um filme de diamante condutor, como uma camada diamantífera contínua, dopado com boro, obtido pela técnica de crescimento de CVD, dimensionado de modo a produzir um substancial aumento da área superficial, controlando a rugosidade, porosidade e o nível de dopagem do filme. Esta patente refere-se ao eletrodo acima e ao processo de obtenção deste para uso em aplicações eletroquímicas.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
100
Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100]
01/23/2018
RPI 2455
121
Recorrente: O depositante.@Despacho: Cumpra as exigências do parecer técnico no prazo de 60(sessenta) dias desta publicação. [121]
09/12/2017
RPI 2436
Petição de recurso
#12.2
08/25/2015
RPI 2329
Indeferimento
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) da LPI
10/08/2013
RPI 2231
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
03/12/2013
RPI 2201
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Departamento de Ciência e Tecnologia Aeroespacial (DCTA)
12/27/2011
RPI 2138
Alteração de nome deferida
#25.4
Nome Alterado de: Centro Técnico Aeroespacial (CTA)
12/13/2011
RPI 2136
Publicação do pedido de patente
#3.1
01/03/2006
RPI 1826
Pedido de patente depositado
#2.1
10/13/2004
RPI 1762
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