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Official data from INPI

PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE DIOL RACÊMICO E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE R- OU S-DIOL, USO DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE RS-DIOL E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE S-DIOL E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE R-DIOL, E, MÉTODO PARA A PREPARAÇÃO DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE CITALOPRAM E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE S-CITALOPRAM E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE R-CITALOPRAM

ArquivadaInvention PatentPCT · DK2003000907

Application data

Number

PI0317629

Type

Invention Patent

Filing

12/18/2003

Publication

11/29/2005

PCT

DK2003000907

Progress at the INPI

  1. Filing12/18/03
  2. Publication11/29/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/21/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

H. Lundbeck A/S

DK

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Inventors

B. C. (pessoa física)

DK

H. P. (pessoa física)

DK

R. H. (pessoa física)

DK

R. D. (pessoa física)

DK

Technical data

Priority claims

DK

PA200202004 · 12/23/2002

Abstract

"PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE DIOL RACÊMICO E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE R- OU S-DIOL, USO DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE RS-DIOL E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE S-DIOL E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE R-DIOL, E, MÉTODO PARA A PREPARAÇÃO DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE CITALOPRAM E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE S-CITALOPRAM E/OU DE SAL DE ADIÇÃO DE ÁCIDO E/OU BASE LIVRE DE R-CITALOPRAM". No que segue, citalopram-diol significa 4-(4-(dimetil-amino)-1-(4-fluoro-fenil)-1-hidróxi-butil)-3-(hidróxi-metil)-benzonitrila, como base livre e/ou sal de adição de ácido. A invenção refere-se a um processo para a preparação de citalopram-diol racêmico e/ou R- ou S-citalopram-diol, compreendendo a separação de uma mistura não-racêmica de E- e S-citalopram-diol com mais do que 50% de um dos enantiômeros em uma fração estando enriquecida com S- ou R-citalopram-diol e uma fração compreendendo RS-citalopram-diol no qual a razão de R-citalopram-diol: S-citalopram-diol é igual a 1:1 ou está mais próxima de 1:1 do que na mistura inicial. O método é caracterizado pelo fato de que (i) RS-citalopram-diol é precipitado de uma solução da mistura não-racêmica inicial, ou R- ou S-citalopram-diol é dissolvido em um solvente da mistura não-racêmica inicial, deixando um resíduo de RS-citalopram-diol, e pelo fato de que (ii) o resíduo/precipitado formado é separado da fase de solução inicial, seguido por etapas opcionais de repetição, recristalização, purificação, isolamento e conversão entre os sais e a base livre. A invenção também se refere a um processo para a preparação de RS-citalopram, S-citalopram ou R-citalopram (todos como a base livre e/ou o sal de adição de ácido) compreendendo o método descrito acima seguido por fechamento de anel.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

07/21/2015

RPI 2324

Republicação - classificação IPC

#15.11

As Classificações Anteriores eram: C07C 253/34 , C07D 307/87

03/03/2015

RPI 2304

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

03/03/2015

RPI 2304

Não anuência — art. 229 da LPI

#7.5

NOTIFICAÇÃO DE ANUÊNCIA RELACIONADA COM O ART 229 DA LPI

09/23/2014

RPI 2281

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

11/19/2013

RPI 2237

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

06/26/2012

RPI 2164

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/29/2005

RPI 1821

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