COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTO-CURAVEL TERMO-ESTAVEL PARA RESISTOR DE FILME SECO

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Abstract

"COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTO-CURÁVEL TERMO-ESTÁVEL PARA RESISTOR DE FILME SECO". A presente invenção refere-se a um processo para preparação de um resistor de filme seco através de formação de uma composição de resina foto-curável sobre um filme suporte com uma espessura de 1 a 50 m e opcionalmente laminando um filme protetor sobre a camada de composição foto-curável para obter um resistor de filme seco; pelo que a resina fotocurável é formada a partir de uma mistura homogênea compreendendo (a) de 20-90% em peso de um oligômero ou polímero ligante solúvel em alcalino; (b) de 5 a 60% em peso de um ou mais monômeros fotopolimerizáveis que são compatíveis com os oligômeros e polímeros de componente (a); (c) de 0,01 a 20% em peso de um ou mais fotoiniciadores; (d) de O a 20% em peso de aditivos e/ou auxiliares; e (e) de 0,1 a 10% em peso de um corante trifenil metano leuco da fórmula I onde R^ 1^ é um resíduo selecionado de R^ 2^ é alquila C~ 1-12~ ou fenila que pode estar mono-, di- ou trissubstituído com alquila C~ 1-6~, triflúor metila, alcóxi C~ 1-6~, alquil tio C~ 1-6~, halogênio e nitro; R^ 3^ é hidrogênio ou alquila C~ 1-12~; R~ 4^ a R^ 9^ independentemente um do outro são hidrogênio ou alquila C~ 1-12~; x é 0, S, NH ou N-alquila C~ 1-12~; (a) a (e) sendo 100% em peso. A composição acima é útil para evitar desfavorável geração de cor durante a laminação quente.