Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
12/11/2007
RPI 1927
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Official data from INPI
SOLUÇÃO ÁCIDA PARA DEPOSIÇÃO DE PRATA E MÉTODO PARA DEPOSIÇÃO DE CAMADA DE PRATA SOBRE SUPERFÍCIES DE METAL
ArquivadaInvention PatentPCT · EP2003005585
Application data
Number
PI0311665Type
Invention Patent
Filing
05/27/2003
Publication
02/22/2005
PCT
EP2003005585 Progress at the INPI
- Filing05/27/03
- Publication02/22/05
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 05/27/2003 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/11/2007. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Atotech Deutschland GMBH.
DE
Inventors
C. S. (pessoa física)
DE
H. M. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
102 26 328.0 · 06/11/2002
Abstract
"SOLUÇÃO ÁCIDA PARA DEPOSIÇÃO DE PRATA E MÉTODO PARA DEPOSIÇÃO DE CAMADA DE PRATA SOBRE SUPERFÍCIES DE METAL". A presente invenção se refere a uma solução de processamento e a um método que são utilizados para produzir camadas de prata soldáveis e ligáveis, as propriedaes das quais não são degradadas mesmo após armazenamento, com compostos anti-embaçantes não sendo utilizados em contrate com as soluções e métodos da técnica anterior. A solução ácida para deposição de prata contém íons de prata e pelo menos um, agente de complexação de Cu(I), o dito agente de complexação de Cu(I) sendo selecionado do grupo compreendenco compostos apresentando o elemento estrutura (I).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
06/05/2007
RPI 1900
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
02/22/2005
RPI 1781
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