111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
08/27/2019
RPI 2538
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Official data from INPI
SISTEMA DE REATOR E PROCESSO PARA REAÇÕES ALTAMENTE EXOTÉRMICAS
Em AnáliseInvention PatentPCT · US2003005864
Application data
Number
PI0308034Type
Invention Patent
Filing
02/05/2003
Publication
12/28/2004
PCT
US2003005864 Progress at the INPI
- Filing02/05/03
- Publication12/28/04
- Examination
- Refused08/27/19
- Grant
- In force
The application was refused on 08/27/2019 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/27/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Arco Chemical Technology, L.P.
US
Inventors
D. L. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
10/085,702 · 02/28/2002
Abstract
"SISTEMA DE REATOR E PROCESSO PARA REAÇÕES ALTAMENTE EXOTÉRMICAS". A presente invenção refere-se a um processo para a produção de compostos de oxirano pela reação de uma olefina, tal como propileno, com um hidroperóxido orgânico usando um catalisador de contato sólido, caracterizado pelo fato de que uma série de zonas de reação separadas é usada, cada uma recheada com catalisador de epoxidação, e a concentração de hidroperóxido na alimentação para cada zona de reação é mantida abaixo de 8% em peso.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
120
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Tome conhecimento do parecer técnico e se manifeste no prazo de 60 (sessenta) dias. [120]
06/04/2019
RPI 2526
Petição de recurso
#12.2
05/27/2014
RPI 2264
Indeferimento
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o Art. 8º combinado com o Art. 13 da LPI
10/02/2012
RPI 2178
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
04/10/2012
RPI 2153
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
03/09/2011
RPI 2096
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/28/2004
RPI 1773
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