PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE CAMADAS DE SILÍCIO POROSO POR EXPOSIÇÃO A VAPORES CORROSIVOS DO SILÍCIO

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Abstract

"PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE CAMADAS DE SILÍCIO POROSO POR EXPOSIÇÃO A VAPORES CORROSIVOS DO SILÍCIO". A presente invenção refere-se à produção de nanocristais de Si por meio da formação de camadas de silício poroso. O método aqui proposto envolve a utilização de um béquer contendo uma solução de quatro partes de HF e uma parte de HNO3, sobre o qual fica exposto o substrato de silício. Quando são colocados pedaços de Si na solução, gera-se o vapor que origina a camada de Si poroso (fig.1). Tal método proporciona camadas com luminescência na chamada banda S (vermelho-alaranjado) (fig.2) com excelente uniformidade e reprodutibilidade (fig.3).