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Official data from INPI

PRODUÇÃO DE ADITIVO CERÂMICO E VITROCERÂMICO ANTIMICROBIANO PELO PROCESSO DE TROCA IÔNICA

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0304351

Type

Invention Patent

Filing

06/23/2003

Publication

05/17/2005

Progress at the INPI

  1. Filing06/23/03
  2. Publication05/17/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/12/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. J. (pessoa física)

SC, BR

E. A. (pessoa física)

SC, BR

H. R. (pessoa física)

SC, BR

M. F. (pessoa física)

SC, BR

Inventors

A. J. (pessoa física)

BR

E. A. (pessoa física)

BR

H. R. (pessoa física)

BR

M. F. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

"PRODUÇÃO DE ADITIVO CERÂMICO E VITROCERÂMICO ANTIMICROBIANO PELO PROCESSO DE TROCA IÔNICA". Refere-se a presente invenção ao processo de produção de um aditivo cerâmico e vitrocerâmico antimicrobiano pelo processo de troca iônica, propriedade que será levada a outros materiais pela adição deste produto. Apresenta o processo uma excelente eficiência em dotar os materiais cerâmicos e vitrocerâmicos desenvolvidos com propriedade para a troca de íons e com a propriedade bactericida e fungicida. Esse aditivo poderá ser utilizado em diversas áreas como materiais poliméricos, filtro de água, tintas e vernizes etc. O processo todo está fundamentado sobre o efeito oligodinâmico dos íons metálicos como a prata o titânio, mercúrio, cobre, cádmio, cromo, níquel, estanho, chumbo, cobalto, zinco, ferro, manganês, arsênico, antimônio, bismuto, bário, incorporados ã cerâmica através do processo de troca iônica dos íons metálicos com íons alcalinos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.

04/12/2011

RPI 2101

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente a 6ª anuidade

02/23/2010

RPI 2042

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/17/2005

RPI 1793

Pedido de patente depositado

#2.1

02/03/2004

RPI 1726

Patent monitoring

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