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Official data from INPI

PROCESSO PARA OBTENÇÃO DE TÂNTALO, NIÓBIO E URÂNIO DE ALTA PUREZA POR EXTRAÇÃO LÍQUIDO-LÍQUIDO.

ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0303472

Type

Invention Patent

Filing

09/05/2003

Publication

10/11/2005

Progress at the INPI

  1. Filing09/05/03
  2. Publication10/11/05
  3. Examination
  4. Allowance07/19/11
  5. Grant02/07/12
  6. Terminated10/17/23

The patent was granted on 02/07/2012 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/17/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventors

G. W. (pessoa física)

BR

J. M. (pessoa física)

BR

J. M. (pessoa física)

BR

J. C. (pessoa física)

BR

R. S. (pessoa física)

BR

R. L. (pessoa física)

BR

W. C. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

"PROCESSO PARA OBTENÇÃO DE TÂNTALO, NIÓBIO E URÂNIO DE ALTA PUREZA POR EXTRAÇÃO LÍQUIDO-LÍQUIDO". A presente invenção refere-se a um processo de extração por solvente, em baterias de misturadores-decantadores de múltiplos estágios, com uma mistura de dois extratantes para obtenção de tântalo e/ou nióbio de alta pureza contido em compostos ou minérios que contenham ou não urânio associado. É apresentado também um processo de recuperação do urânio contido nestes minérios ou compostos. O processo compreende as seguintes etapas: dissolução de compostos ou de minérios em ácido fluorídrico ou um sal que seja fonte de fluor, combinado ou não com ácido sulfúrico, produzindo uma solução aquosa ácida concentrada em tântalo e/ou nióbio; ajuste de acidez desta solução com ácido sulfúrico e/ou água; extração do tântalo e/ou nióbio com a mistura dos extratantes; lavagem para remoção de impurezas; reextração seletiva do nióbio da fase orgânica com bifluoreto de amônio ou com água levemente acidulada; segunda lavagem do solvente para remoção de impurezas; reextração do tântalo da fase orgânica com uma solução de sais de amônio para obtenção do heptafluortantalato de amônio solúvel em água, de elevada pureza e com alto rendimento; precipitação das soluções de nióbio e de tântalo reextraídas com amônio; obtenção dos óxidos de tântalo e de nióbio e/ou do fluortantalato de potássio. O óxido de tântalo e o fluortantalato de potássio obtido por este processo têm uma pureza acima de quatro noves (99,99%) e com rendimento acima de 99%.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2738 de 27-06-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

10/17/2023

RPI 2754

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 20ª anuidade.

06/27/2023

RPI 2738

Restauração da patente

#24.4

12/08/2020

RPI 2605

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 17ª anuidade.

09/29/2020

RPI 2595

Restauração da patente

#24.4

10/15/2019

RPI 2545

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

referente ao despacho 24.2 na RPI 2190 de 26/12/2012

07/16/2019

RPI 2532

Exigência de complementação da retribuição anual

#24.2

Referente à 7ª anuidade, de acordo recolhimento 22090356048-5, de acordo com a tabela vigente.

12/26/2012

RPI 2190

Concessão da patente

#16.1

02/07/2012

RPI 2144

Deferimento

#9.1

07/19/2011

RPI 2115

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/21/2010

RPI 2085

15.7

Não conhecida a petição nº 020060104640/RJ de 13/07/2006, em virtude do exposto no Art. 219 inciso II da LPI, uma vez que já consta nos autos do processo petição de pedido de exame.

04/22/2009

RPI 1998

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/11/2005

RPI 1814

6.7

Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.

05/03/2005

RPI 1791

Pedido de patente depositado

#2.1

12/23/2003

RPI 1720

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