Publicação do pedido arquivado definitivamente
#3.6
06/27/2006
RPI 1851
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Official data from INPI
NOVOS DERIVADOS N-FENILPIPERAZÍNICOS E COMPOSIÇÕES FARMACÊUTICAS CONTENDO OS MESMOS
Em AnáliseInvention Patent
Application data
Number
PI0303465Type
Invention Patent
Filing
09/05/2003
Publication
06/27/2006
Progress at the INPI
- Filing09/05/03
- Publication06/27/06
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/27/2006. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Universidade Federal do Rio de Janeiro - UFRJ
RJ, BR
Universidade Federal do Rio Grande do Sul - UFRGS
RS, BR
Inventors
C. F. (pessoa física)
BR
E. B. (pessoa física)
BR
G. N. (pessoa física)
L. T. (pessoa física)
S. R. (pessoa física)
T. C. (pessoa física)
Technical data
IPC Classification
Abstract
"NOVOS DERIVADOS N-FENILPIPERAZÍNICOS E COMPOSIÇÕES FARMACÊUTICAS CONTENDO OS MESMOS". A presente invenção proporciona novos derivados N-fenilpiperazínicos e composições farmacêuticas compreendendo os mesmos, sendo estes novos derivados estruturais da clozapina capazes de atuar em vias dopaminérgicas e/ou serotoninérgicas de ação central; estes compostos demonstraram-se úteis no tratamento de disfunção erétil e também úteis como antipsicóticos, com as vantagens de não acarretarem os efeitos colaterais típicos da clozapina; proporcionarem menor incidência de catatonia quando comparados com outro agente antipsicótico, o haloperidol, e não apresentarem efeito depressor do sistema nervoso central; as moléculas também apresentam efeito hipotérmico, que pode ser útil no tratamento de quadros que apresentem hipertermia.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 17 §2° da LPI
#11.11
Prioridade interna do PI 0405418-0.
02/01/2005
RPI 1778
Pedido de patente depositado
#2.1
12/23/2003
RPI 1720
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