(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

MÉTODO PARA FORMAÇÃO DE UM CONTATO DE BAIXA RESISTÊNCIA ENTRE UM MATERIAL METÁLICO E UM MATERIAL ORGÂNICO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR ORGÂNICO E MÉTODO PARA CRIAÇÃO DE UM TRANSISTOR DE EFEITO DE CAMPO DE PORTA ISOLADA DE ALTO DESEMPENHO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2003011125

Application data

Number

PI0303025

Type

Invention Patent

Filing

04/10/2003

Publication

08/10/2004

PCT

US2003011125

Progress at the INPI

  1. Filing04/10/03
  2. Publication08/10/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 04/12/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

P. C. (pessoa física)

US

See this company's full portfolio

Inventors

L. M. (pessoa física)

US

M. B. (pessoa física)

US

Y. Y. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

10/218.141 · 08/12/2002

Abstract

"MÉTODO PARA FORMAÇÃO DE UM CONTATO DE BAIXA RESISTÊNCIA ENTRE UM MATERIAL METÁLICO E UM MATERIAL ORGÂNICO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR ORGÂNICO E MÉTODO PARA CRIAÇÃO DE UM TRANSISTOR DE EFEITO DE CAMPO DE PORTA ISOLADA DE ALTO DESEMPENHO". Um processo de recozimento térmico em alta temperatura cria um contato de baixa resistência entre um material metálico e um material orgânico de um dispositivo semicondutor orgânico, o que aperfeiçoa a eficiência de injeção de portadores. O processo forma contatos ohmicos e contatos Schottky. Adicionalmente, o processo pode causar migração ou difusão de átomos ou ions de metal para o interior do material orgânico, pode fazer o material orgânico cristalizar-se, ou ambos. O resultante dispositivo semicondutor orgânico possui características operacionais aperfeiçoadas tal como velocidades de operação mais rápidas. Ao invés de utilizar calor, o processo pode utilizar outras formas de energia, tais como voltagem, corrente energia de radiação eletromagnética para aquecimento localizado, energia de infravermelhos e energia de ultravioletas. São descritos um diodo orgânico aperfeiçoado exemplar compreendendo alumínio, carbono C~ 60~, e cobre, bem como exemplos de transistores de efeito de campo de porta isolada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.

04/12/2011

RPI 2101

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 6º anuidade.

02/23/2010

RPI 2042

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/10/2004

RPI 1753

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.