Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
04/12/2011
RPI 2101
Application data
Number
PI0302953Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/12/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Samsung Gwang Ju Electronics CO., LTD.
KR
Inventors
S. S. (pessoa física)
KR
IPC Classification
Priority claims
KR
2003-26634 · 04/28/2003
Abstract
"COMPRESSOR HERMÉTICO". Um compressor hermético, no qual uma unidade amortecedora fica montada em uma superfície interna de um invólucro hermético para suportar de maneira estável e elástica o invólucro hermético e alterar a freqüência ressonante do invólucro hermético. A unidade amortecedora fica disposta numa posição previamente determinada de uma parte de invólucro superior do invólucro hermético para suportar de maneira elástica a parte de invólucro superior com elasticidade previamente determinada. A unidade amortecedora apresenta uma parte de montagem na qual a unidade amortecedora fica montada na parte de invólucro superior, e uma parte de suporte elástico para suportar de maneira elástica a parte de invólucro superior. A parte de suporte elástico apresenta uma parte de flange projetada em direção a uma extensão que excede um plano alinhado com a superfície da parte de montagem. A parte de flange assim suporta de forma elástica o invólucro hermético em um estado de deformação elástica. A parte de suporte elástico apresenta ainda uma parte de asa para conectar a parte de flange à parte de montagem. A parte de asa é arredondada numa direção oposta a uma direção projetada da parte de flange. Dentro do compressor hermético, a unidade amortecedora suporta de forma elástica a parte de invólucro superior do invólucro hermético e altera a freqüência ressonante da parte de invólucro superior, impedindo assim que a parte de invólucro superior ressoe com ondas específicas de alta e baixa freqüência irradiada para uma superfície interna da parte de invólucro superior.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
04/12/2011
RPI 2101
#8.6
Referente a 5º e 6º anuidade.
02/23/2010
RPI 2042
#3.1
03/29/2005
RPI 1786
#2.1
10/28/2003
RPI 1712
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