Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/27/2007
RPI 1925
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Official data from INPI
PROCESSO PARA REMOÇÃO DE IMPUREZAS FINAS EM PÓ DE ALUMINAS SECUNDÁRIAS E MATERIAL CONTENDO ALUMINA E/OU FLÚOR
ArquivadaInvention PatentPCT · NO2002000485
Application data
Number
PI0215195Type
Invention Patent
Filing
12/17/2002
Publication
11/16/2004
PCT
NO2002000485 Progress at the INPI
- Filing12/17/02
- Publication11/16/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 12/17/2002 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/27/2007. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Alstom (Switzerland) Ltd.
CH
Inventors
I. D. (pessoa física)
NO
O. B. (pessoa física)
NO
Technical data
IPC Classification
Priority claims
NO
2001 6230 · 12/19/2001
Abstract
"PROCESSO PARA REMOÇÃO DE IMPUREZAS FINAS EM PÓ DE ALUMINAS SECUNDÁRIAS E MATERIAL CONTENDO ALUMINA E/OU FLÚOR". A presente invenção refere-se a um processo para remoção de impurezas a partir de pós de alumina secundária e material contendo alumina e/ou flúor compreendendo: (a) acidificação por adição de um ácido (2, 12, 32) ao material a ser purificado (1, 11, 31); (b) aquecimento da mistura acidificada (3, 13, 35); (c) lixiviação da mistura em uma solução de um ácido (6, 16, 39); (d) separação do sólido e líquido.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
02/13/2007
RPI 1884
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
11/16/2004
RPI 1767
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