Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2108 de 31/05/2011.
03/20/2012
RPI 2150
Application data
Number
PI0215019Type
Filing
Publication
PCT
US2002040301 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/20/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Selective Micro Technologies, LLC
US
Inventors
J. W. (pessoa física)
US
R. H. (pessoa física)
US
Priority claims
US
10/225,769 · 08/22/2002
US
60/341,429 · 12/17/2001
Abstract
"APARELHO E MÉTODO PARA DISTRIBUIÇÃO CONTROLADA DE UM GÁS". É revelado aparelho para distribuição de um gás, por exemplo, dióxido de carbono e/ou dióxido de cloro, e métodos de utilização e fabricação do mesmo. O aparelho inclui um sachê (30) construído em parte com um material hidrofóbico. o sachê (30) contém um ou mais reagentes (40) que geram um gás na presença de um agente iniciador, por exemplo, água. O aparelho também pode incluir uma camada (550) de barreira e/ou uma armação rígida. Em uma outra modalidade, o aparelho é combinado com um reservatório (1845) que pode ser usado para distribuir um gás para o reservatório e, opcionalmente, um conduto. Em uma outra modalidade, o aparelho é incorporado em um sistema de dispersão de fluido que inclui um aparelho de dispersão, por exemplo, um umidificador.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2108 de 31/05/2011.
03/20/2012
RPI 2150
#8.6
Referente 7a. e 8a. anuidade(s).
05/31/2011
RPI 2108
#1.3
05/10/2005
RPI 1792
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