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Official data from INPI

MÉTODO DE APLICAR UM MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO A UM RECIPIENTE PARA METAIS EM FUSÃO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2002010767

Application data

Number

PI0212785

Type

Invention Patent

Filing

10/16/2002

Publication

01/09/2007

PCT

JP2002010767

Progress at the INPI

  1. Filing10/16/02
  2. Publication01/09/07
  3. Examination
  4. Allowance08/04/15
  5. Grant10/27/15
  6. Expired04/28/26

The letters patent expired on 04/28/2026: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/28/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

K. C. (pessoa física)

JP

N. C. (pessoa física)

JP

NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION

JP

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Inventors

J. K. (pessoa física)

JP

K. G. (pessoa física)

JP

K. K. (pessoa física)

JP

N. S. (pessoa física)

JP

T. I. (pessoa física)

JP

Y. Y. (pessoa física)

JP

Y. F. (pessoa física)

JP

Y. N. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2001-319941 · 10/17/2001

Abstract

"MÉTODO DE APLICAR UM MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO A QUALQUER UM DENTRE UM RECIPIENTE PARA METAIS EM FUSÃO, UM APARELHO DE PROCESSAMENTO PARA METAIS EM FUSÃO E UM FORNO A ALTA TEMPERATURA, E, MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO". São divulgados um método de aplicação com excelente aplicabilidade de um refratário monolítico a um recipiente de metal em fusão, um aparelho de processamento de metal, ou um forno de alta temperatura e na vida do corpo aplicado, comparado com métodos de jateamento convencionais, e um refratário monolítico. A aplicação de água é usada é feita de antemão a um pó refratário ultrafino de sílica volátil e/ou alumina calcinada armazenada em uma tremonha e a mistura é amassada. Um refratário monolítico é composto de um dispersante e um agregado refratário que contém 1-30% em massa do pó refratário ultrafino misturado com a água de adição. O refratário monolítico composto é alimentado a uma parte abaixo da tremonha, enquanto se adiciona um agente acelerador de pega, e projetado centrifugamente. Uma vez que o refratário monolítico é alimentado na parte abaixo da tremonha, a fluidez conferida ao refratário monolítico pode ser de um baixo grau. Portanto, a quantidade de água para aplicação pode ser reduzida, e um local de aplicação pode ser facilitado projetando-se o refratário monolítico com ângulo em uma faixa predeterminada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 27/10/2025

04/28/2026

RPI 2886

Alteração de nome deferida

#25.4

10/22/2019

RPI 2546

Concessão da patente

#16.1

10/27/2015

RPI 2338

Transferência deferida

#25.1

10/27/2015

RPI 2338

Alteração de sede deferida

#25.7

10/13/2015

RPI 2336

Alteração de nome deferida

#25.4

09/29/2015

RPI 2334

Deferimento

#9.1

08/04/2015

RPI 2326

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/16/2013

RPI 2206

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

07/24/2012

RPI 2168

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

01/09/2007

RPI 1879

6.7

Comprove a eleição do Brasil apresentando cópia do IPEA/409, ou do IPEA/408, ou do IPEA/402, ou do IPEA/416 conforme item 11 do AN 128.

10/24/2006

RPI 1868

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