Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 27/10/2025
04/28/2026
RPI 2886
Application data
Number
PI0212785Type
Filing
Publication
PCT
JP2002010767 The letters patent expired on 04/28/2026: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/28/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
K. C. (pessoa física)
JP
N. C. (pessoa física)
JP
NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION
JP
Inventors
J. K. (pessoa física)
JP
K. G. (pessoa física)
JP
K. K. (pessoa física)
JP
N. S. (pessoa física)
JP
T. I. (pessoa física)
JP
Y. Y. (pessoa física)
JP
Y. F. (pessoa física)
JP
Y. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2001-319941 · 10/17/2001
Abstract
"MÉTODO DE APLICAR UM MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO A QUALQUER UM DENTRE UM RECIPIENTE PARA METAIS EM FUSÃO, UM APARELHO DE PROCESSAMENTO PARA METAIS EM FUSÃO E UM FORNO A ALTA TEMPERATURA, E, MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO". São divulgados um método de aplicação com excelente aplicabilidade de um refratário monolítico a um recipiente de metal em fusão, um aparelho de processamento de metal, ou um forno de alta temperatura e na vida do corpo aplicado, comparado com métodos de jateamento convencionais, e um refratário monolítico. A aplicação de água é usada é feita de antemão a um pó refratário ultrafino de sílica volátil e/ou alumina calcinada armazenada em uma tremonha e a mistura é amassada. Um refratário monolítico é composto de um dispersante e um agregado refratário que contém 1-30% em massa do pó refratário ultrafino misturado com a água de adição. O refratário monolítico composto é alimentado a uma parte abaixo da tremonha, enquanto se adiciona um agente acelerador de pega, e projetado centrifugamente. Uma vez que o refratário monolítico é alimentado na parte abaixo da tremonha, a fluidez conferida ao refratário monolítico pode ser de um baixo grau. Portanto, a quantidade de água para aplicação pode ser reduzida, e um local de aplicação pode ser facilitado projetando-se o refratário monolítico com ângulo em uma faixa predeterminada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 27/10/2025
04/28/2026
RPI 2886
#25.4
10/22/2019
RPI 2546
#16.1
10/27/2015
RPI 2338
#25.1
10/27/2015
RPI 2338
#25.7
10/13/2015
RPI 2336
#25.4
09/29/2015
RPI 2334
#9.1
08/04/2015
RPI 2326
#6.1
04/16/2013
RPI 2206
#7.1
07/24/2012
RPI 2168
#1.3
01/09/2007
RPI 1879
Comprove a eleição do Brasil apresentando cópia do IPEA/409, ou do IPEA/408, ou do IPEA/402, ou do IPEA/416 conforme item 11 do AN 128.
10/24/2006
RPI 1868
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