Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2224 de 20/08/2013.
02/18/2014
RPI 2250
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Official data from INPI
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DEPOSITAR UMA CAMADA DE SILÍCIO, PELO MENOS PARCIALMENTE CRISTALINA, EM UM SUBSTRATO
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · NL2002000244
Application data
Number
PI0208601Type
Invention Patent
Filing
04/12/2002
Publication
03/23/2004
PCT
NL2002000244 Progress at the INPI
- Filing04/12/02
- Publication03/23/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/18/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
T. E. (pessoa física)
NL
Inventors
A. S. (pessoa física)
NL
D. S. (pessoa física)
NL
E. H. (pessoa física)
NL
M. S. (pessoa física)
NL
Technical data
IPC Classification
Priority claims
NL
1017849 · 04/16/2001
Abstract
"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DEPOSITAR UMA CAMADA DE SILÍCIO, PELO MENOS PARCIALMENTE CRISTALINA, EM UM SUBSTRATO". Em um processo e dispositivo para depositar uma camada de silício, pelo menos parcialmente cristalina, é gerado um plasma e um substrato (24) é exposto, sob a influência do plasma, a um fluido fonte contendo silício, para deposição nele de silicio. Uma queda de pressão é aplicada entre um local (12), onde o fluido fonte é suprido, e o substrato (24). Além do fluido fonte, um fluido auxiliar é também injetado, que é capaz de atacar os átomos de silício não-cristalinos. O substrato (24) é exposto tanto ao fluido fonte como ao fluido auxiliar.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 11ª anuidade
08/20/2013
RPI 2224
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
03/29/2011
RPI 2099
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
07/27/2010
RPI 2064
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
01/05/2010
RPI 2035
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/23/2004
RPI 1733
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