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Official data from INPI

Processo para a produção de resina de absorção de água reticulada, resina de absorção de água e material sanitário

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2002013161

Application data

Number

PI0206696

Type

Invention Patent

Filing

12/17/2002

Publication

02/03/2004

PCT

JP2002013161

Progress at the INPI

  1. Filing12/17/02
  2. Publication02/03/04
  3. Examination
  4. Allowance09/10/13
  5. Grant12/10/13
  6. Expired12/26/23

The letters patent expired on 12/26/2023: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/26/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Nippon Shokubai CO., LTD.

JP

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Inventors

H. F. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

K. I. (pessoa física)

JP

S. N. (pessoa física)

JP

Y. N. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2001-385746 · 12/19/2001

Abstract

"COMPOSIÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO E SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO, E PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE RESINA DE ABSORÇÃO DE ÁGUA UTILIZANDO ESSA COMPOSIÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO, E RESINA DE ABSORÇÃO DE ÁGUA". Para produzir uma resina que absorve água barata e com alta produtividade, da qual: o teor de monômero residual e o teor extraível de água são ambos baixos, e as propriedades são elevadas e a capacidade de coloração é baixa; é fornecido um processo para a produção de uma resina que absorva água, o qual é um processo para a produção de uma resina que absorva água reticulada por polimerização de um componente de monômero incluindo ácido acrílico e/ou seu sal em uma grande proporção em que o ácido acrílico é um produto obtido por oxidação de fase gasosa catalítica de propileno e/ou propano, com o processo sendo caracterizado por compreender as etapas de: preparar o componente de monômero de uma composição de ácido acrílico que inclui o ácido acrílico não neutralizado e um metoxifenol e tem um teor de metoxifenol de 10 a 160 ppm em peso (com base no ácido acrílico não neutralizado); e então realizar polimerização radical e/ou ultravioleta do componente de monômero resultante.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 10/12/2023

12/26/2023

RPI 2764

Concessão da patente

#16.1

12/10/2013

RPI 2240

Deferimento

#9.1

09/10/2013

RPI 2227

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/24/2013

RPI 2207

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/12/2012

RPI 2162

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

04/05/2011

RPI 2100

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/03/2004

RPI 1726

Patent monitoring

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