Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI
#24.10
Referente ao despacho 21.6 publicado na RPI 2566 de 2020-03-10
09/08/2020
RPI 2592
Application data
Number
PI0205345Type
Filing
Publication
PCT
JP2002004644 The patent was granted on 05/15/2012 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
S. K. (pessoa física)
JP
Inventors
K. O. (pessoa física)
JP
K. N. (pessoa física)
JP
K. W. (pessoa física)
JP
T. K. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2001-145571 · 05/15/2001
JP
2001-340318 · 11/06/2001
Abstract
"PÓ DE NIÓBIO, CORPO SINTERIZADO DE NIÓBIO E CAPACITOR USANDO O CORPO SINTERIZADO". Um pó de nióbio para um capacitor tendo uma densidade de drenagem de 0,5 a 2,5 g/ml, e tamanho de partícula médio de 10 a 1000 forma de ângulo de repouso de 10 a 60 , a área de superfície específica de BET de 0,5 a 40 m^ 2/g e uma pluralidade de topos de pico de diâmetro de poro na distribuição de poros, e um método de produção deste; (2) um corpo sinterizado de nióbio que é obtido sinterizando o pó de nióbio acima e, tendo uma pluralidade de topos de pico de diâmetro de poro em uma faixa de 0,01 m a 500 m, preferivelmente, os topos de pico dos dois picos entre a pluralidade de topos de pico de diâmetro de poro tendo uma intensidade relativa mais alta estão presentes na faixa de 0,2 a 0,7 m e na faixa de 0,7 a 3 m respectivamente, e um método de produção deste; (3) um capacitor usando o corpo sinterizado acima e um método de produção deste; e (4) um circuito eletrônico e dispositivo eletrônico usando o capacitor acima.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Referente ao despacho 21.6 publicado na RPI 2566 de 2020-03-10
09/08/2020
RPI 2592
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
03/10/2020
RPI 2566
#16.1
05/15/2012
RPI 2158
#9.1
08/02/2011
RPI 2117
#7.1
12/28/2010
RPI 2086
#6.1
08/31/2010
RPI 2069
#1.3
04/22/2003
RPI 1685
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