Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2051 de 27/04/2010.
06/14/2011
RPI 2110
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Official data from INPI
PROCESSO DE TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR ACELERAÇÃO MOLECULAR
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0203695Type
Invention Patent
Filing
09/04/2002
Publication
05/25/2004
Progress at the INPI
- Filing09/04/02
- Publication05/25/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/14/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Tecnolara - Tratamento de Efluentes LTDA.
SP, BR
Inventors
J. C. (pessoa física)
BR
J. C. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
"PROCESSO DE TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR ACELERAÇÃO MOLECULAR". REFERE-SE A PROCESSO QUE PURIFICA QUALQUER LÍQUIDO 3 ORIUNDO DE INDÚSTRIAS, COMÉRCIOS, EFLUENTES DOMÉSTICOS, EFLUENTES RURAIS, ATERROS SANITÁRIOS, CEMITÉRIOS, RIOS, LAGOS, LAGOAS, E PRINCIPALMENTE EFLUENTES OBJETIVANDO DESPOLUIÇÃO AMBIENTAL, EM UM REATOR DE ACELERAÇÃO MOLECULAR 2. ESTE PROCESSO APLICA UMA CORRENTE ELÉTRICA 5 DE FREQUÊNCIA CONHECIDA EM PLACAS DE MATERIAL CONDUTIVO 8, POR UM LÍQUIDO IMPURO 3, TRANSFORMANDO OS CONTAMINANTES EM ENERGIA TÉRMICA, GERANDO UM FLUIDO 4 PURIFICADO. ESTE PROCESSO PERMITE TAMBÉM A SOLUÇÃO SIMULTÂNEA DE MISTURA DE EFLUENTES VARIADOS, RESOLVENDO PROBLEMAS NO ÂMBITO SOCIAL, SANITÁRIO, TÉCNICO, ECONÔMICO, ESTRATÉGICO, DESENVOLVIMENTO E DE POLUIÇÃO AMBIENTAL.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 4ª anuidade.
04/27/2010
RPI 2051
8.8
Referente ao despacho publicado na RPI 1980 de 16/12/2008.
03/30/2010
RPI 2047
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 4ª e 6ª anuidades.
12/16/2008
RPI 1980
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/25/2004
RPI 1742
Pedido de patente depositado
#2.1
10/22/2002
RPI 1659
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