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Official data from INPI

SISTEMA INTEGRADO PARA MEDIÇÃO ON-LINE E CONTROLE DE PH EM PROCESSO HIDROMETALÚRGICO DE ZINCO, COM LIMPEZA AUTOMÁTICA DE ELETRODO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0201259

Type

Invention Patent

Filing

04/10/2002

Publication

02/03/2004

Progress at the INPI

  1. Filing04/10/02
  2. Publication02/03/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 06/02/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. M. (pessoa física)

MG, BR

C. M. (pessoa física)

MG, BR

Votorantim Metais Zinco S.A.

MG, BR

Inventors

C. S. (pessoa física)

BR

E. C. (pessoa física)

BR

I. C. (pessoa física)

BR

W. L. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"SISTEMA INTEGRADO PARA MEDIÇÃO ON-LINE E CONTROLE DE PH EM PROCESSO HIDROMETALÚRGICO DE ZINCO, COM LIMPEZA AUTOMÁTICA DE ELETRODO". A presente invenção trata de um sistema integrado para medição e controle de pH em processo hidrometalúrgico de Zinco, oriundo de minerais, onde o meio em que se processa a medição e controle é caracterizado por uma solução composta de uma série de elementos químicos como: Zn, Cu, Co, Cd, Fe, Mn, F, Mg, Ca, Pb, Ge, Si, As, etc, em meio aquoso, a uma temperatura que pode variar entre cerca de 50 a 90 C e um pH variando entre cerca de 1 e 6. Sistema integrado para medição de pH em processo hidrometalúrgico de zinco com limpeza automática do eletrodo, caracterizado por compreender: a) uma ou mais sondas retráteis (4) capazes de medir o pH da solução de forma contínua; b) uma ou mais unidades eletrônicas (7): para transmissão de sinais e dados de controle para o controlador lógico programável (5) ou CLP; c) um ou mais controladores lógicos programáveis ou CLP (5): um ou mais equipamentos que gerenciam o controle do processo, onde é armazenado o programa que executa as etapas de funcionamento do sistema de medição; d) uma ou mais válvulas de controle (6): onde se fazem as dosagens dos reagentes, para a correção do pH conforme valores pré-ajustados; e) um ou mais terminais supervisórios (8): equipamento que pode ocorrer isoladamente ou fazer parte do sistema CLP (5), o qual permite a manipulação e leitura pelo operador dos valores pré-ajustados.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

Pedido de patente arquivado conforme o disposto no art. 36 § 1° da LPI em face da não apresentação do cumprimento de exigência publicada na RPI n° 2295 de 30/12/2014

06/02/2015

RPI 2317

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/30/2014

RPI 2295

8.8

Referente ao despacho 8.6 na RPI 2144 de 07/02/2012 e despacho 8.11 na RPI 2181 de 23/10/2012.

06/18/2013

RPI 2215

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2144 de 07/02/2012.

10/23/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente 10a. anuidade(s).

02/07/2012

RPI 2144

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: Companhia Paraibuna de Metais

03/13/2007

RPI 1888

Transferência deferida

#25.1

Transferido por Incorporação de: Companhia Mineira de Metais

02/27/2007

RPI 1886

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/03/2004

RPI 1726

Pedido de patente depositado

#2.1

06/04/2002

RPI 1639

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