Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 09/04/2023
05/09/2023
RPI 2731
Application data
Number
PI0200467Type
Filing
Publication
The letters patent expired on 05/09/2023: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/09/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
D. C. (pessoa física)
JP
Inventors
S. M. (pessoa física)
JP
S. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2001-049017 · 02/23/2001
JP
2002-020568 · 01/29/2002
Abstract
"MÉTODO DE TRATAMENTO QUÍMICO DE FOSFATO ELETROLÍTICO". O objetivo da presente invenção é fornecer um método de tratamento químico de fosfato eletrolítico capaz de melhorar a eficiência de reação sobre uma superfície metálica (interface) impedindo-se a reação na fase de solução de modo a impedir com segurança a formação de lama durante o tratamento contínuo. A presente invenção diz respeito a um método de formar uma película composta de um composto de fosfato e um metal sobre a superfície de um artigo a ser tratado realizando-se o tratamento eletrolítico em um artigo de material metálico a ser tratado em um banho de tratamento químico de fosfato contatando-se o dito material metálico tendo condutividade elétrica com o dito banho de tratamento químico de fosfato contendo íons fosfato e ácido fosfórico, íons nitrato, íons metálicos que formem um complexo com os íons fosfato no dito banho de tratamento químico de fosfato e íons metálicos para os quais o potencial de equilíbrio de dissolução-precipitação no qual os íons dissolvidos no dito banho de tratamento químico de fosfato são reduzidos e precipitados como metal é igual ou maior do que -830 mV, que é o potencial de decomposição da reação catódica do solvente na forma de água quando indicado como o potencial de eletrodo padrão de hidrogênio e é substancialmente isento de íons metálicos outros que não aqueles que são um componente da película; em que, o ORP (potencial de oxidação-redução) do dito banho de tratamento químico de fosfato (indicado como o potencial relativo a um eletrodo de hidrogênio padrão) é mantido igual ou maior do que 700 mV.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.1
Patente extinta em 09/04/2023
05/09/2023
RPI 2731
#16.1
04/09/2013
RPI 2205
#9.1
02/26/2013
RPI 2199
#6.1
09/25/2012
RPI 2177
#7.1
07/19/2011
RPI 2115
#3.1
10/29/2002
RPI 1660
#2.1
04/09/2002
RPI 1631
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