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Official data from INPI

MÉTODO DE TRATAMENTO QUÍMICO DE FOSFATO ELETROLÍTICO.

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0200467

Type

Invention Patent

Filing

02/21/2002

Publication

10/29/2002

Progress at the INPI

  1. Filing02/21/02
  2. Publication10/29/02
  3. Examination
  4. Allowance02/26/13
  5. Grant04/09/13
  6. Expired05/09/23

The letters patent expired on 05/09/2023: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 05/09/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

D. C. (pessoa física)

JP

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Inventors

S. M. (pessoa física)

JP

S. N. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2001-049017 · 02/23/2001

JP

2002-020568 · 01/29/2002

Abstract

"MÉTODO DE TRATAMENTO QUÍMICO DE FOSFATO ELETROLÍTICO". O objetivo da presente invenção é fornecer um método de tratamento químico de fosfato eletrolítico capaz de melhorar a eficiência de reação sobre uma superfície metálica (interface) impedindo-se a reação na fase de solução de modo a impedir com segurança a formação de lama durante o tratamento contínuo. A presente invenção diz respeito a um método de formar uma película composta de um composto de fosfato e um metal sobre a superfície de um artigo a ser tratado realizando-se o tratamento eletrolítico em um artigo de material metálico a ser tratado em um banho de tratamento químico de fosfato contatando-se o dito material metálico tendo condutividade elétrica com o dito banho de tratamento químico de fosfato contendo íons fosfato e ácido fosfórico, íons nitrato, íons metálicos que formem um complexo com os íons fosfato no dito banho de tratamento químico de fosfato e íons metálicos para os quais o potencial de equilíbrio de dissolução-precipitação no qual os íons dissolvidos no dito banho de tratamento químico de fosfato são reduzidos e precipitados como metal é igual ou maior do que -830 mV, que é o potencial de decomposição da reação catódica do solvente na forma de água quando indicado como o potencial de eletrodo padrão de hidrogênio e é substancialmente isento de íons metálicos outros que não aqueles que são um componente da película; em que, o ORP (potencial de oxidação-redução) do dito banho de tratamento químico de fosfato (indicado como o potencial relativo a um eletrodo de hidrogênio padrão) é mantido igual ou maior do que 700 mV.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 09/04/2023

05/09/2023

RPI 2731

Concessão da patente

#16.1

04/09/2013

RPI 2205

Deferimento

#9.1

02/26/2013

RPI 2199

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

09/25/2012

RPI 2177

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

07/19/2011

RPI 2115

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/29/2002

RPI 1660

Pedido de patente depositado

#2.1

04/09/2002

RPI 1631

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