Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 da RPI 2021 de 29/09/2009.
11/16/2010
RPI 2080
Application data
Number
PI0116898Type
Filing
Publication
PCT
US2001005232 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/16/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
EMS Technologies, Inc.
US
Inventors
J. C. (pessoa física)
US
S. P. (pessoa física)
US
IPC Classification
Abstract
"MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR ESTADOS DE POLARIZAÇÃO DUAL COM LARGURAS DE FEIXE DE RF CONTROLADAS". Um sistema de antena pode gerar campos de radiação de RF tendo estados de polarização simultânea dual e tendo padrões de radiação substancialmente rotacionalmente simétricos. O sistema de antena gera padrões de radiação RF em que as larguras de feixe dos respectivos campos de RF para os respectivos elementos de radiação são substancialmente iguais e são relativamente grandes apesar do tamanho físico compacto do sistema de antena. O sistema de antena pode incluir um ou mais radiadores de reparo (patch) e um reparo não ressonante separado dos outros por um dielétrico de ar e por elementos espaçadores relativamente pequenos. Os radiadores de reparo e o reparo não ressonante podem ter formados pré-definidos para aumentar a discriminação de polarização. Os radiadores de reparo inferiores podem ser montados em uma placa de circuito impresso que pode incluir uma rede de alimentação RF e um plano terra que define uma pluralidade de sulcos simetricamente formatados. Os sulcos dentro do plano terra da placa de circuito impresso podem ser excitados por troncos que são parte da rede de alimentação da placa de circuito impresso. Os sulcos, por sua vez, podem estabelecer um modo magnético transversal de radiação RF em uma cavidade que é disposta adjacente ao plano terra da placa de circuito impresso e um plano terra do sistema de antena. A rede de alimentação da placa de circuito impressa pode ser alinhada com partes da cavidade tal que as partes da cavidade funcional como uma banheira de calor para absorver ou receber a energia térmica produzida pela rede de alimentação.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 da RPI 2021 de 29/09/2009.
11/16/2010
RPI 2080
#8.6
Referente a 7ª e 8ª anuidade(s).
09/29/2009
RPI 2021
Referente ao despacho publicado na RPI 1840 de 11/04/2006 por ter sido indevido.
05/16/2006
RPI 1845
Complementar a 3ª anuidade de acordo com a tabela vigente,cuja guia 300237345454.
04/11/2006
RPI 1840
#1.3
01/24/2006
RPI 1829
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