Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2055 de 25/05/2010.
08/23/2011
RPI 2120
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Official data from INPI
RESINAS DE POLIÉSTER BASEADAS EM ÁCIDO TEREFTÁLICO E 2-METIL-1,3-PROPANODIOL E PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DAS MESMAS
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2001042665
Application data
Number
PI0115495Type
Invention Patent
Filing
10/12/2001
Publication
10/21/2003
PCT
US2001042665 Progress at the INPI
- Filing10/12/01
- Publication10/21/03
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/23/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Arco Chemical Technology, L.P.
US
Inventors
L. K. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
09/721,424 · 11/22/2000
Abstract
"RESINAS DE POLIÉSTER BASEADAS EM ÁCIDO TEREFTÁLICO E 2-METIL-1,3-PROPANODIOL E PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DAS MESMAS". A presente invenção refere-se a resinas insaturadas de poliéster (UPR) à base de tereftalato à base de 2-metil-1,3-propanodiol, um ácido dicarboxílico saturado ou derivado do mesmo e um ácido dicarboxílico insaturado ou derivado do mesmo podem ser preparados sem uso de um catalisador em tempos de ciclo razoáveis. As UPR baseadas nestes monômeros exibem solubilidade excepcional em estireno e são assim úteis em resinas de poliéster para moldagem.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 5ª,6ª,7ª e 8ª anuidades.
05/25/2010
RPI 2055
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/21/2003
RPI 1711
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