Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
05/31/2016
RPI 2369
Application data
Number
PI0114209Type
Filing
Publication
PCT
FR2001002934 The application was refused on 05/31/2016 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/31/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
C. I. (pessoa física)
FR
Inventors
V. C. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Priority claims
FR
00/12107 · 09/22/2000
Abstract
"DISPOSITIVO DE PRODUÇÃO DE PLASMA, PROCESSO DE IONIZAÇÃO, UTILIZAÇÕES DO PROCESSO E REALIZAÇÕES QUE IMPLEMENTAM O DISPOSITIVO CONFORME A INVENÇÃO". A invenção se aplica ao campo de transformação de materiais e se relaciona a um dispositivo para produzir plasma, um método para ionizar material usando dito dispositivo, usos do método inventivo e processos de produção usando dito dispositivo. Dito dispositivo é caracterizado por compreender uma câmara de ressonância (1), uma camara acústica (5), provida com um dispositivo acústico (7) e uma câmara de sóliton (8) para receber o material tratado vindo da câmara de ressonância (1) enquanto que simultaneamente gera uma reciclagem do ar exterior, definindo dita câmara de sóliton (8), com um membro de sucção pulsante (10) adjacente à saída de dita câmara de sóliton (8), um espaço (11) produzindo material ionizado.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
05/31/2016
RPI 2369
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com Art. 24, Art. 15 e Art. 25 da LPI
10/13/2015
RPI 2336
#7.1
06/23/2015
RPI 2320
#1.3
07/01/2003
RPI 1695
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