Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/27/2007
RPI 1925
Application data
Number
PI0110763Type
Filing
Publication
PCT
US2001015333 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 05/11/2001 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Maxwell Technologies, INC.
US
Inventors
C. N. (pessoa física)
US
C. F. (pessoa física)
US
R. C. (pessoa física)
US
R. B. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/569679 · 05/12/2000
Abstract
"MÉTODO DE PREPARAR UMA ESTRUTURA DE ELETRODO PARA USO EM UM CAPACITOR DE CAMADA DUPLA, E, CAPACITOR DE CAMADA DUPLA". Um capacitor de camada dupla (Figura 1) inclui primeira (12) e segunda (14) estruturas de eletrodo separadas por um separador poroso cada uma incluindo uma folha coletora de corrente (22), um revestimento primário formado sobre a folha coletora de corrente, e um revestimento secundário formado sobre o revestimento primário. Os revestimentos primários incluem pó de carbono condutor (42), e os revestimentos secundários incluem pó de carbono ativado (44). Um método de preparação de estruturas de eletrodo inclui as etapas de: preparar uma primeira suspensão que inclui pó de carbono condutor e um aglutinante; aplicar a primeira suspensão para formar um revestimento primário; preparar uma segunda suspensão que inclui pó de carbono ativado, um solvente e um aglutinante, e aplicar a segunda suspensão no revestimento primário.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
11/27/2007
RPI 1925
#11.1
03/20/2007
RPI 1889
#1.3
05/06/2003
RPI 1687
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