Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.
04/07/2009
RPI 1996
Application data
Number
PI0110339Type
Filing
Publication
PCT
FR2001001269 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/07/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
J. B. (pessoa física)
FR
Inventors
J. B. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Priority claims
FR
00/05321 · 04/26/2000
Abstract
"PROCESSO ELETROLÍTICO PARA OXIDAÇÃO POR MICROARCO DE PLASMA E GERADOR ELETRÔNICO DE PONTE DE CORRENTE". A invenção se refere a um método para obter um revestimento cerâmico na superfície de um metal tendo propriedades semicondutoras, tal como alumínio, titânio, magnésio, háfnio, zircônio e suas ligas, transformando por reação físico-química o metal tratado. O método consiste em imergir a peça metálica (5) a ser revestida em uma solução eletrolítica (3) consistindo em uma solução aquosa de hidróxido de metal alcalino, tal como potássio ou sódio, e um sal oxiácido de metal alcalino, a peça metálica formando um dos eletrodos e em aplicar aos eletrodos um sinal geralmente de forma triangular que tem pelo menos uma inclinação dianteira e uma inclinação traseira, com fator de formato variável durante o processo, gerando uma corrente controlada na intensidade, no seu formato e na sua proporção entre intensidade positiva e intensidade negativa.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.
04/07/2009
RPI 1996
#8.6
Referente à 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
08/19/2008
RPI 1963
#1.3
12/30/2003
RPI 1721
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