Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado 1976 de 18/11/2008.
12/29/2009
RPI 2034
Application data
Number
PI0109926Type
Filing
Publication
PCT
US2001010458 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Praxair Technology, INC.
US
Inventors
K. A. (pessoa física)
US
N. K. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/545850 · 04/10/2000
Abstract
"SISTEMA INTEGRADO PARA PRODUZIR DIÓXIDO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA, PROCESSO PARA PRODUZIR UM REVESTIMENTO DE DIÓXIDO DE SILÍCIO PURO SOBRE UM SUBSTRATO, MÉTODO PARA PREPARAR DIÓXIDO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA, E, SISTEMA INTEGRADO PARA A DISTRIBUIÇÃO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA PARA UM FORNO DE OXIDAÇÃO DE SILÍCIO E PARA O USO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA PARA PREPARAR DIÓXIDO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA". Um sistema integrado para produzir dióxido de silício de alta pureza compreendendo: uma fonte (2) de um gás de alimentação contendo oxigênio, uma célula de membrana transportadora de oxigênio (1) contendo uma membrana de transporte seletivo de oxigênio (15), a citada membrana (15) sendo efetiva em temperatura elevada para separar oxigênio no citado gás de alimentação pelo transporte de íons oxigênio do citado gás de alimentação através da citada membrana (15) para formar um permeato de oxigênio purificado, ao mesmo tempo retendo um retido contendo impureza, empobrecido em oxigênio, sobre um lado catódico da mesma, uma passagem (11) da citada fonte (2) para o lado catódico da citada célula de membrana (1), uma fonte de silício (25), e um forno de oxidação de silício (5), em comunicação com um lado anódico da citada célula de membrana (1), para reação do citado permeato de oxigênio purificado com silício em uma alta temperatura de reação, com o propósito de produzir a citada reação de silício de pureza elevada, com o objetivo de produzir o citado dióxido de silício de alta pureza.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado 1976 de 18/11/2008.
12/29/2009
RPI 2034
#8.6
Referente a 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
11/18/2008
RPI 1976
#1.3
08/05/2003
RPI 1700
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