Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 14.06.2021
06/29/2021
RPI 2634
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Official data from INPI
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA REGULAGEM DA CONCENTRAÇÃO DE ÍONS METÁLICOS EM UM LÍQUIDO ELETROLÍTICO.
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · DE2001000748
Application data
Number
PI0109167Type
Invention Patent
Filing
02/23/2001
Publication
11/26/2002
PCT
DE2001000748 Progress at the INPI
- Filing02/23/01
- Publication11/26/02
- Examination
- Allowance09/28/10
- Grant06/14/11
- Expired06/29/21
The letters patent expired on 06/29/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/29/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Atotech Deutschland GmbH
DE
Inventors
K. M. (pessoa física)
DE
S. L. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
100 13 339.8 · 03/17/2000
Abstract
"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA REGULAGEM DA CONCENTRAÇÃO DE ÍONS METÁLICOS EM UM LÍQUIDO ELETROLÍTICO, BEM COMO APLICAÇÃO DO PROCESSO E USO DO DISPOSITIVO". Para regulagem da concentração de íons metálicos em um líquido eletrolítico, que serve para a precipitação eletrolítica de metal e que contém, adicionalmente, materiais de um sistema de redox eletroquimicamente reversível, é conhecido guiar pelo menos uma parte do líquido eletrolítico por uma célula auxiliar 2, que apresenta um ânodo auxiliar 20 não solúvel e pelo menos um cátodo auxiliar 30, entre os quais é produzido um fluxo de corrente por aplicação de uma tensão. Desse modo, são reduzidas quantidades excessivas dos materiais oxidados do sistema de redox no cátodo auxiliar 30 e, desse modo, reduzida a formação de íons do metal a ser precipitado. Partindo disso, a presente invenção consiste no fato de usar como cátodo auxiliar fragmentos do metal 30 a ser precipitado.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
06/14/2011
RPI 2110
Deferimento
#9.1
09/28/2010
RPI 2073
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
03/23/2010
RPI 2046
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
11/26/2002
RPI 1664
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