Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1971 de 14/10/2008.
08/11/2009
RPI 2014
Application data
Number
PI0107903Type
Filing
Publication
PCT
FR2001000235 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
R. R. (pessoa física)
FR
Inventors
J. C. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Priority claims
FR
00/01001 · 01/26/2000
Abstract
"DISPERSÃO COLOIDAL AQUOSA, PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO, E, UTILIZAÇÃO DA MESMA". A invenção refere-se a uma dispersão coloidal aquosa de um composto de cério e, pelo menos, um outro elemento M escolhido dentre as terras raras diferentes de cério; o titânio, o vanádio, o cloro, o manganês, o ferro, o cobalto, o níquel, o cobre, o zinco, o alumínio, o gálio e o zircônio. Esta dispersão é caracterizada em que ela apresenta uma condutividade de, pelo menos, 5mS/cm. Ela é obtida por um processo em que se faz reagir, com uma base, uma mistura de, pelo menos, um sal de cério com pelo menos um sal de um elemento M acima mencionado e em presença de um ácido em quantidade tal que a relação atômica H^ +^/(Ce+M) seja superior a 0,1, depois redispersa-se, na água, o precipitado proveniente da reação precedente. As dispersões deste tipo podem ser utilizadas em catálise, em lubrificação, nas cerâmicas, na fabricação de compostos luminóforos, na cosmética e como agentes anti-corrosão.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1971 de 14/10/2008.
08/11/2009
RPI 2014
#8.6
Referente a 4ª, 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
10/14/2008
RPI 1971
#1.3
12/03/2002
RPI 1665
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