Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.
04/07/2009
RPI 1996
Application data
Number
PI0107401Type
Filing
Publication
PCT
IB2001002014 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Basell Technology Company BV
NL
Inventors
C. S. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
T. P. (pessoa física)
US
V. D. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/704,325 · 11/02/2000
Abstract
"PROCESSO DE IRRADIAÇÃO PARA PRODUZIR COPOLÍMEROS DE ENXERTO DE OLEFINA COM CADEIAS LATERAIS DE PESO MOLECULAR BAIXO". Copolímeros de enxerto são preparados, em uma atmosfera substancialmente não oxidante, por (1) irradiando um material de polímero de olefina particulado com radiação ionizante (2) tratando o material de polímero de olefina particulado irradiado com pelo menos um monômero de enxerto que é capaz de formar cadeias laterais no material de polímero de poliolefina, na presença de pelo menos um aditivo para controlar o peso molecular das cadeias laterais do monômero de enxerto polimerizado selecionado de (a) pelo menos um inibidor de polimerização derivado de hidroxilamina, e (b) pelo menos um composto alifático ou aromático tio-, ou nitro-, ou halogênio-substituído ou um derivado de fosfina alifático ou aromático, e (3) desativando os radicais livres residuais no material de polímero de olefina particulado enxertado resultante, e removendo qualquer vinil monômero não reagido do material. Polímeros de enxerto com cadeias laterais de baixo peso molecular são produzidos os quais são mais fáceis de processar e têm morfologia interna e de superfície aperfeiçoada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.
04/07/2009
RPI 1996
#8.6
Referente à 3ª e 7ª anuidades.
08/19/2008
RPI 1963
#1.3
10/08/2002
RPI 1657
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