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Official data from INPI

CONJUNTO DE VÁLVULA DE UM COMPRESSOR RECÍPROCO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0106290

Type

Invention Patent

Filing

12/19/2001

Publication

01/14/2003

Progress at the INPI

  1. Filing12/19/01
  2. Publication01/14/03
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/06/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Samsung Gwangju Electronics Co., Ltd.

KR

Samsung Kwang-Ju Electronics CO. LTD.

KR

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Inventors

M. H. (pessoa física)

KR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

KR

2001-23240 · 04/28/2001

Abstract

"CONJUNTO DE VÁLVULA DE UM COMPRESSOR RECÍPROCO". Conjunto de válvula de um compressor recíproco do tipo fechado. O conjunto de válvula inclui uma placa de válvula disposta entre um corpo de cilindro e uma cabeça de cilindro, uma válvula de palheta para abrir e vedar um orifício de descarga de refrigerante formado na placa de válvula, um primeiro bujão para resistir contra uma força de curvatura da válvula de palheta curvada quando o refrigerante é descarregado, um segundo bujão para resistir contra uma força de curvatura do primeiro bujão pela válvula de palheta, um retentor para limitar o grau de curvatura do segundo bujão pelo primeiro bujão e um parafuso encaixado com o retentor para conexão com o bujão curvado pela válvula de palheta. Quando a pressão de descarga de refrigerante é aumentada, a força de resistência contra a força de curvatura é adicionada pelo primeiro bujão e o segundo bujão, por sua vez e, assim, a eficiência de compressão é aumentada pela mudança do grau de abertura da válvula de palheta que corresponde À mudança de pressão e, ao mesmo tempo, o ruído pode ser reduzido pela redução do choque adicionado à válvula de palheta. Além disso, quando há um aumento anormal do processo de renderização, o grau de deformação do segundo bujão limitado pelo retentor pode ser controlado pelo uso do parafuso.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

04/06/2010

RPI 2048

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/30/2008

RPI 1982

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: Samsung Kwang-Ju Electronics Co. Ltd.

05/29/2007

RPI 1899

Alteração de sede deferida

#25.7

Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 047927/RJ de 27/08/2003.

05/29/2007

RPI 1899

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/14/2003

RPI 1671

Pedido de patente depositado

#2.1

02/19/2002

RPI 1624

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