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Official data from INPI

PROCESSO PARA A COMBUSTÃO, EM UM FORNO, DE PRODUTOS DE REAÇÃO FORMADOS EM UMA REAÇÃO QUÍMICA.

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0101330

Type

Invention Patent

Filing

04/06/2001

Publication

11/06/2001

Progress at the INPI

  1. Filing04/06/01
  2. Publication11/06/01
  3. Examination
  4. Allowance11/11/08
  5. Grant04/07/09
  6. Expired04/13/21

The letters patent expired on 04/13/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/13/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Praxair Technology, Inc.

US

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Inventors

H. K. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/544451 · 04/07/2000

Abstract

"PROCESSO PARA A COMBUSTÃO, EM UM FORNO, DE PRODUTOS DE REAÇÃO FORMADOS EM UMA REAÇÃO QUÍMICA". Um forno regenerativo, sem a circulação de gás de conduto de gases para os leitos regeneradores, é aquecido pela combustão do gás de síntese com o oxidante. O gás de sintese é produzido a partir de vapor de água e metano em um primeiro leito regenerador, aquecido no ciclo anterior enquanto um segundo leito regenerador, resfriado no ciclo anterior, é aquecido pela passagem, do mesmo, de um gás quente de conduto de gases proveniente de uma fonte que não a do forno. Tendo sido resfriado o primeiro leito regenerador por meio de reação quimica endotérmica do vapor de água com o metano, ele é aquecido pelo gás quente do conduto de gases, enquanto que o vapor de água e o metano são reagidos no segundo leito, agora quente, resfriando-o deste modo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 06.04.2021

04/13/2021

RPI 2623

Concessão da patente

#16.1

04/07/2009

RPI 1996

Deferimento

#9.1

11/11/2008

RPI 1975

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/06/2001

RPI 1609

Pedido de patente depositado

#2.1

05/22/2001

RPI 1585

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