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Official data from INPI

PROCESSO PARA A DETERMINAÇÃO DO TEOR DE OXIGÊNIO DE UM GÁS DE MEDIÇÃO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0100622

Type

Invention Patent

Filing

02/19/2001

Publication

10/09/2001

Progress at the INPI

  1. Filing02/19/01
  2. Publication10/09/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/19/2001 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/13/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Heraeus Electro-Nite Intenational N.V.

BE

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Inventors

K. S. (pessoa física)

DE

S. L. (pessoa física)

BE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

100 08 441.9 · 02/23/2000

Abstract

Patente de Invenção: "PROCESSO PARA A DETERMINAÇÃO DO TEOR DE OXIGÊNIO DE UM GÁS DE MEDIÇÃO" . A invenção refere-se a um processo para a determinação do teor de oxigênio de um gás de medição, com um sensor bem como a utilização do sensor de acordo com o processo. Se apresenta o problema de colocar à disposição um processo, com o qual lâmbda pode ser determinado de modo tão preciso quanto possível e de maneira simples. O problema é solucionado, para o processo, na medida em que a determinação do teor de oxigênio do gás de medição é realizada por meio das primeira e segunda células de medição na maneira seriada, e que o teor de oxigênio do gás de medição é determinado por meio da segunda célula de medição em uma faixa de lâmbda de 0,8 a 1,4 e, por meio da primeira célula de medição, é determinado em uma faixa de lâmbda de 1 a 20.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

12/13/2005

RPI 1823

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

09/20/2005

RPI 1811

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/09/2001

RPI 1605

Pedido de patente depositado

#2.1

03/13/2001

RPI 1575

Patent monitoring

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