SISTEMA DE CAMADA DE DLC COM CARACTERÍSTICAS DE DESLIZAMENTO MELHORADAS E PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DESSES SISTEMAS DE CAMADA

IPC Classification

Priority claims

Abstract

"SISTEMA DE CAMADA DE DLC COM CARACTERÍSTICAS DE DESLIZAMENTO MELHORADAS E PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DESSES SISTEMAS DE CAMADA". A invenção descreve um dispositivo e um processo que tornam possível a produção de um sistema de camada para proteção contra desgaste, proteção contra corrosão e melhoramento das propriedades de deslizamento e similares, com uma camada de adesão a ser disposta sobre um substrato, uma camada de transição a ser disposta sobre a camada de adesão e uma camada de cobertura de carbono tipo diamante, onde a camada de adesão compreende pelo menos um elemento do grupo de elementos que contém os elementos dos quarto, quinto e sexto subgrupos da tabela periódica e silício, a camada de transição compreende carbono e pelo menos um elemento dos grupos mencionados acima, e a camada de cobertura consiste essencialmente em carbono tipo diamante, o sistema de camada tendo uma dureza de pelo menos 15 GPa, preferencialmente de pelo menos 20 GPa, e uma adesão de pelo menos 3 HF, de acordo com a VDI 3821, Folha 4. O processo usado para a produção deste sistema de camada é tal que a introdução inicial do substrato em uma câmara de vácuo e o bombeamento para a produção de um vácuo de pelo menos 0,1 Pa, preferencialmente de 0,01 Pa, primeiramente, sejam seguidos pela limpeza da superfície de substrato, para se removerem quaisquer impurezas aderentes e, então, pela deposição suportada por plasma da camada de adesão. Subseqüentemente, a camada de transição é aplicada pela deposição simultânea dos componentes da camada de adesão e pela deposição de carbono da fase gasosa, por meio de plasma - CVD. A camada de carbono tipo diamante, então, é aplicada unicamente por meio da deposição suportada por plasma de carbono da fase gasosa. Durante o processo, uma voltagem de orientação é aplicada ao substrato, esta voltagem sendo pulsada na faixa de freqüência média, enquanto um campo magnético sobreposto estabiliza o plasma nas etapas de processo individuais. Um dispositivo apropriado para a realização do processo de revestimento, portanto, consiste em uma câmara de vácuo (1) com um sistema de bombeamento (9), para a produção de um vácuo na câmara de vácuo, dispositivos de suporte de substrato (3), para o recebimento dos substratos a serem revestidos, pelo menos uma unidade de suprimento de gás (18), para dosagem do suprimento de gás de processo, pelo menos um dispositivo vaporizador (14), para tornar disponível material de revestimento para deposição, um dispositivo de geração de arco (10, 13), para a ignição de um arco de voltagem baixa d.c., um dispositivo (16), para a geração de uma voltagem de orientação de substrato e com pelo menos um ou vários dispositivos geradores de campo magnético (17), para a formação de um campo magnético distante. A invenção também descreve um sistema de camada de DLC - deslizamento e um processo para a produção de um sistema como esse, o qual em seu lado de superfície é provido com uma camada de deslizamento adicional.