(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

AGENTE DE RETICULAÇÃO A BASE DE COMPOSTOS DE POLI (ÉTER ALÍLICO)

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2000007183

Application data

Number

PI0015230

Type

Invention Patent

Filing

10/17/2000

Publication

07/23/2002

PCT

JP2000007183

Progress at the INPI

  1. Filing10/17/00
  2. Publication07/23/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 12/15/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Daiso CO., LTD. (Daiso Kabushiki Kaisha)

JP

Inventors

S. N. (pessoa física)

JP

T. M. (pessoa física)

JP

Y. S. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

11/299555 · 10/21/1999

JP

11/299556 · 10/21/1999

Abstract

"AGENTE DE RETICULAÇÃO À BASE DE COMPOSTOS DE POLI (ÉTER ALÍLICO)". Um agente de reticulação contendo um composto de poli (éter alílico), tendo pelo menos um grupo hidroxila derivado de um grupo glicidila e pelo menos dois grupos alila, pode ser usado para a produção de um polímero de alta absorvência de água compreendendo um composto polimerizável tendo uma dupla-ligação carbono - carbono ou um sal dele, tem uma alta solubilidade em solução aquosa do monômero e produz um polímero de alta absorvência de água tendo a absorvência de água requerida em níveis práticos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

12/15/2009

RPI 2032

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/14/2009

RPI 1997

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/23/2002

RPI 1646

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.