Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
03/09/2011
RPI 2096
Application data
Number
PI0014162Type
Filing
Publication
PCT
US2000023911 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/09/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
International Dioxcide, Inc.
US
Inventors
B. K. (pessoa física)
US
D. K. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
Priority claims
US
09/389,335 · 09/03/1999
Abstract
Patente de Invenção: "GERADOR PARA A GERAÇÃO DE DIÓXIDO DE CLORO SOB EDUÇÃO A VÁCUO EM UMA ÚNICA PASSAGEM". Um gerador eletrolítico operado a vácuo pode ser usado para produzir uma solução de dióxido de cloro ou uma névoa de dióxido de cloro a partir de uma solução de cloreto de metal alcalino aquosa tamponada em uma passagem através de uma pilha eletrolítica. A pilha contém um anodo de área de superfície superior, um catodo condutor altamente resistente à corrosão, e uma membrana de troca de íon de cátion entre o anodo e o catodo. Um edutor é usado na linha efluente do anólito para criar um vácuo e puxar o anólito através da pilha. Ou água motriz ou um gás inerte motriz (tal como ar) é usado no edutor. De preferência, um edutor é usado na linha efluente do católito. Uma linha efluente do anólito ascendente com uma válvula de parada não-corrosiva leva da pilha para o edutor do anodo. Sensores são usados para monitorar a composição do efluente do anólito e/ou da alimentação do anólito. O produto final é uma solução de dióxido de cloro quando água é usada para a edução. O produto final é uma névoa consistindo essencialmente em dióxido de cloro gasoso, um gás inerte, e vapor de água quanto um gás inerte é usado para a edução. A névoa é útil para aplicação em plantações, solos, produtos tal como vegetais, fruta tabaco, campos, porões de armazenamento e similar.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
03/09/2011
RPI 2096
#8.6
Referente a 7ª, 8ª e 9ª anuidade(s).
11/24/2009
RPI 2029
#1.3.1
Referente a RPI 1635 de 07/05/2002, quanto ao item (71)
01/30/2007
RPI 1882
#1.3
05/07/2002
RPI 1635
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