Application data
Number
PI0013846Type
Filing
Publication
PCT
DE2000002423 The patent was granted on 06/15/2010 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/10/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Atotech Deutschland GmbH
DE
Inventors
F. K. (pessoa física)
DE
M. G. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
199 44 908.2 · 09/10/1999
Abstract
Patente de Invenção: "PROCESSO PARA FORMAÇÃO DE UM PADRÃO CONDUTOR EM SUBSTRATOS DIELÉTRICOS". Para formar um padrão condutor em substratos dielétricos, é proposto um processo, no qual a) um substrato coberto com um filme metálico é revestido com uma camada protetora, que é formada tratando-se o filme metálico com uma solução, que contém pelo menos um composto contendo nitrogênio, b) a camada protetora é removida por radiação de UV, pelo menos parcialmente, nas regiões que não correspondem ao padrão condutor a ser formado, de tal modo que o filme metálico está exposto e c) o filme metálico exposto é depois removido por corrosão. Por meio desse processo, podem ser produzidos padrões condutores extremamente finos, de modo reprodutível, em substratos dielétricos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2385 de 20-09-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
01/10/2017
RPI 2401
#21.6
Referente à 16ª anuidade.
09/20/2016
RPI 2385
#16.1
06/15/2010
RPI 2058
#9.1
09/29/2009
RPI 2021
Referente a RPI 2014 de 11/08/2009.
09/15/2009
RPI 2019
#11.2
08/11/2009
RPI 2014
#6.1
01/13/2009
RPI 1984
#1.3
05/14/2002
RPI 1636
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