Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1971 de 14/10/2008.
08/11/2009
RPI 2014
Application data
Number
PI0009185Type
Filing
Publication
PCT
US2000007458 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/11/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
IdaTech, LLC
US
Inventors
D. E. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/274154 · 03/22/1999
Abstract
"PROCESSOS PARA FORMAR E PREPARAR UMA MEMBRANA METÁLICA PERMEÁVEL A HIDROGÊNIO, E, MEMBRANA METÁLICA PERMEÁVEL A HIDROGÊNIO". Uma membrana metálica permeável a hidrogênio (30) com maior fluxo de hidrogênio em comparação com membranas metálicas convencionais é produzida por pelo menos uma etapa de causticação, na qual um volume controlado de causticante é usado para remover seletivamente material de superfícies (32, 34) da membrana (30). Sem sacrificar a seletividade da membrana, a membrana (30) permite uma maior vazão de hidrogênio purificado. Os orifícios (60) ou outros defeitos na membrana (30) podem ser reparados pela adição de um metal selante.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1971 de 14/10/2008.
08/11/2009
RPI 2014
#8.6
Referente a 7ª e 8ª anuidades.
10/14/2008
RPI 1971
#1.3
12/26/2001
RPI 1616
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