Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2280 de 16/09/2014.
03/24/2015
RPI 2307
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Application data
Number
PI0005434Type
Invention Patent
Filing
11/17/2000
Publication
07/03/2001
Progress at the INPI
- Filing11/17/00
- Publication07/03/01
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/24/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Applied Films Gmbh & Co. KG
DE
Applied Materials GmbH & Co. KG
DE
Balzers Process Systems GMBH
DE
Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag
DE
Leybold Coating Gmbh & Co KG
DE
Inventors
D. B. (pessoa física)
DE
D. G. (pessoa física)
DE
J. H. (pessoa física)
DE
J. H. (pessoa física)
DE
J. U. (pessoa física)
DE
S. B. (pessoa física)
DE
T. G. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
100 24 827.6 · 05/19/2000
DE
199 55 373.4 · 11/17/1999
Abstract
Patente de Invenção para "COMBINAÇÃO DE ELETRODOS" Uma combinação de eletrodos para revestimento de apoio ao plasma de um substrato (3) com uma camada de material compreendendo, pelo menos, um primeiro e um segundo componente de material, e para a produção de uma descarga de plasma, mais especialmente uma descarga em arco (35), possuindo uma combinação de anodo (5), a qual provê um primeiro componente de material em uma superfície de material anódico (13) para evaporação, e uma combinação de catodo (7), a qual provê o segundo componente de material na superfície de material catódico (25). A combinação de eletrodo é caracterizada pelo fato da superfície de material catódico (25) ser constituída por uma parte de evaporação ativa (27), suportando a descarga do plasma (35), e uma parte de evaporação inativa (41), não suportando a descarga do plasma. Preferivelmente, um meio de produção de movimento (49) é provido para mover a parte da evaporação inativa (41) sobre a superfície de material catódico (25) de maneira a reduzir depósitos de material devido ao primeiro componente de material na superfície de material catódico (25).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 14ª anuidade.
09/16/2014
RPI 2280
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
06/18/2013
RPI 2215
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
01/24/2012
RPI 2142
Alteração de nome deferida
#25.4
Alterado de: Applied Films GmbH & Co. KG
06/19/2007
RPI 1902
Publicação anulada - titular
#25.12
Anulada a Exigência publicada na RPI 1896 de 08/05/2007, por ter sido indevida.
06/12/2007
RPI 1901
Alteração de nome em exigência
#25.6
A fim de atender o solicitado na Petição de Alteração de Nome nº 020070023563/RJ de 26/02/2007, queira apresentar documento onde conste que a requerente alterou sua denominação social.
05/08/2007
RPI 1896
Alteração de nome deferida
#25.4
Alterado de: Leybold Coating GmbH e Co. KG
04/06/2004
RPI 1735
Publicação anulada - titular
#25.12
Referente a RPI 1720 de 23/12/2003 - Item despacho, uma vez que, tal transferência já havia publicado na RPI 1713 de 04/11/2003.
02/17/2004
RPI 1728
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Balzers Process Systems GmbH
12/23/2003
RPI 1720
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Balzers Process Systems GmbH
11/04/2003
RPI 1713
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Balzers Und Leybold Deutschland Holding AG
10/07/2003
RPI 1709
Transferência indeferida
#25.2
Indeferida a transferência requerida através da petição nº 010042 de 02/03/2001, publicada exigência na RPI 1611 de 20/11/2001, uma vez que o requerente esclarece que tal solicitação foi indevida.
09/16/2003
RPI 1706
Transferência em exigência
#25.3
Apresente documento comprobatório da transferência acompanhado da respectiva legalização consular, a fim de atender ao requerido na Pet.(RJ) no. 010042 de 02/03/2001
11/20/2001
RPI 1611
Publicação do pedido de patente
#3.1
07/03/2001
RPI 1591
Pedido de patente depositado
#2.1
12/12/2000
RPI 1562
Patent monitoring
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