Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1925 de 27/11/2007.
12/13/2011
RPI 2136
Application data
Number
PI0005062Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/13/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Rohm and Haas Company
US
Inventors
E. T. (pessoa física)
US
E. C. (pessoa física)
US
K. A. (pessoa física)
US
S. B. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/162184 · 10/28/1999
Abstract
"CONCENTRADO MODIFICADOR DE IMPACTO NÚCLEO-CASCA, MISTURA CLARA DE POLIÉSTER OU COPOLIÉSTER AMORFO, ARTIGOS, E, PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UMA PELOTA DE CONCENTRADO DE MODIFICADOR DE IMPACTO NÚLCEO-CASCA" Concentrados modificadores de impacto que produzem misturas transparentes, de alta resistência a impacto Dynatup, com poliésteres amorfos aromáticos, são descritos. Concentrados modificadores de impacto amorfos, artigos de poliésteres aromáticos tendo melhor claridade do que artigos similares preparados com modificadores de impacto pulverizados comparáveis. Os concentrados modificadores de impacto são misturas de poliésteres com polímeros núcleo-casca com (A) um núcleo composto principalmente de polímeros elásticos, tais como copolímeros de diolefinas com monômeros aromáticos de vinila, tais como copolímeros de butadieno com estireno, (B) um estágio intermediário composto principalmente de polímeros duros, tais como polímeros ou copolímeros de monômeros aromáticos de vinila, e (C ) uma casca composta principalmente de copolímeros vinil aromático que contêm grupos funcionais hidroxila ou seus equivalentes (p.ex., copolímeros estireno/hidroxilaquil (met)acrilatos).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1925 de 27/11/2007.
12/13/2011
RPI 2136
#8.6
Referente à 4ª, 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
11/27/2007
RPI 1925
#3.1
07/03/2001
RPI 1591
#2.1
11/28/2000
RPI 1560
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.