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Official data from INPI

PROCESSAMENTO REATIVO DA POLIANILINA POR MISTURA MECÂNICA

IndeferidaInvention Patent

Application data

Number

PI0003408

Type

Invention Patent

Filing

07/21/2000

Publication

02/26/2002

Progress at the INPI

  1. Filing07/21/00
  2. Publication02/26/02
  3. Examination
  4. Refused04/13/10
  5. Grant
  6. In force

The application was refused on 04/13/2010 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/13/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Universidade Estadual de Campinas - Unicamp

BR

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Inventors

M. P. (pessoa física)

BR

P. F. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

"PROCESSAMENTO REATIVO DA POLIANILINA POR MISTURA MECÂNICA" caracterizado pelo fato de compreender que a polianilina, contendo ou não grupos substituintes em sua estrutura, inicialmente pó, na forma de base esmeraldina (isolante), será processada com um ácido orgânico ou seu sal, de alta mawssa molar em quantidades acima de 35% (razão molar) de dopante, considerando-se a unidade mínima de polianilina contendo 4 anéis monoméricos em relação à concentração molar de dopante.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

04/13/2010

RPI 2049

Indeferimento

#9.2

Indefiro o presente pedido de patente como invenção - de acordo com o art. 8º da LPI.

09/01/2009

RPI 2017

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 15 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

10/28/2008

RPI 1973

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

07/29/2008

RPI 1960

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/26/2002

RPI 1625

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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