Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 10.05.2020
01/26/2021
RPI 2612
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Official data from INPI
MÉTODO PARA APLICAR MATERIAL PARTICULADO A UM SUBSTRATO E APARELHO PARA APLICAR, INTERMITENTEMENTE, UM MATERIAL PARTICULADO A UM SUBSTRATO.
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0002094Type
Invention Patent
Filing
05/10/2000
Publication
01/02/2001
Progress at the INPI
- Filing05/10/00
- Publication01/02/01
- Examination
- Allowance04/22/08
- Grant12/30/08
- Expired01/26/21
The letters patent expired on 01/26/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/26/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Johnson & Johnson
US
Inventors
A. O. (pessoa física)
US
F. Y. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
09/309,411 · 05/10/1999
Abstract
Patente de Invenção: "MÉTODO PARA APLICAÇÃO INTERMITENTE DE MATERIAL PARTICULADO" . A presente invenção é direcionada a um método e a um aparelho para aplicar, intermitentemente, material particulado a uma substrato. Um suprimento contínuo de material particulado é proporcionado de uma fonte de aplicação a uma válvula tendo uma fase de aplicação de pó e uma fase de reciclo. A válvula é disposta para que a fase de aplicação de pó permita que o material particulado passe através da mesma e caia livremente sobre pelo menos uma parte do substrato. A válvula é disposta na fase de reciclo para evitar dispensar o substrato sobre o material particulado e reter o material particulado dentro da válvula a ser transportado de volta para a fonte de suprimento.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
12/30/2008
RPI 1982
Deferimento
#9.1
04/22/2008
RPI 1946
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
11/27/2007
RPI 1925
Publicação do pedido de patente
#3.1
01/02/2001
RPI 1565
Pedido de patente depositado
#2.1
11/28/2000
RPI 1560
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