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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO ANIDRA DE CUIDADO OU DE MAQUILAGEM, PROCESSOS COSMÉTICOS E UTILIZAÇÃO COSMÉTICA DE FIBRAS

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0001804

Type

Invention Patent

Filing

05/16/2000

Publication

02/06/2001

Progress at the INPI

  1. Filing05/16/00
  2. Publication02/06/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/27/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

L'oreal

FR

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Inventors

N. L. (pessoa física)

FR

Technical data

Priority claims

FR

9906411 · 05/20/1999

Abstract

"COMPOSIÇÃO ANIDRA DE CUIDADO OU DE MAQUILAGEM, PROCESSOS COSMÉTICOS E UTILIZAÇÃO COSMÉTICA DE FIBRAS" A presente invenção trata de uma composição anidra de cuidado ou de maquilagem das matérias queratínicas como a pele, os lábios ou os fâneros, que contém fibras compatibilizadas com uma fase graxa por pelo menos um poliol líquido à temperatura ambiente. Essa composição é em particular uma base para a pele ou um batom para os lábios com propriedades de permanência e de resistência à água. A presente invenção tem também por objeto a utilização de fibras em uma composição de cuidado ou de maquilagem das matérias queratínicas para lhe conferir permanência ao longo do tempo, particularmente diante de pressão e de atrito.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Republicação - classificação IPC

#15.11

Procedimento automático de reclassificação. A classificação IPC anterior era A61K 7/48.

03/27/2018

RPI 2464

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2047 de 30/03/2010.

05/10/2011

RPI 2105

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 9ª anuidade.

03/30/2010

RPI 2047

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/06/2001

RPI 1570

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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