Official data from INPI

PROCESSO PARA TRATAMENTO E LIQUEFAÇÃO DE GÁS NATURAL E ELEVADA PRESSÃO

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

PI0001769

Type

Invention Patent

Filing

05/12/2000

Publication

01/02/2001

View on INPI

Progress at the INPI

Filing05/12/00
Publication01/02/01
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 05/12/2000 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 08/10/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Kvaerner Oil & Gas A.S.

Inventors

C. R. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C10L 3/12

Priority claims

9911021.5 · 05/13/1999

Abstract

"PROCESSO PARA TRATAMENTO E LIQUEFAÇÃO DE GÁS NATURAL A ELEVADA PRESSÃO" Um processo para tratamento e liquefação de gás natural a pressão elevada inclui um primeiro meio de troca de calor (102, 104, 106), primeiro meio de expansão (108), meio de separação de gás líquido (110), meios de compressão (114), meios de refrigeração (118), um segundo meio de troca de calor (120), um segundo meio de expansão (122) e uma unidade de vaporização de LNG (124). Os gases de vaporização saindo da unidade de vaporização de LNG (124) podem ou ser passados através dos primeiro e segundo trocadores de calor (102, 104, 106, 120), ou desviados para um uso alternativo externo dos gases de vaporização em combinação com a produção de LNG. Os meios de refrigeração podem ser providos por uma unidade de cascata de propano/etileno. Os gases e vaporização podem ser desviados' para uma planta de metanol. Esta planta de metanol pode incluir processos olefínicos adicionais. Os gases de vaporização podem ser também desviados para uma planta de geração de eletricidade.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

08/10/2004

RPI 1753

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

12/16/2003

RPI 1719

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/02/2001

RPI 1565

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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