Application data
Number
PI0000986Type
Filing
Publication
The patent was granted on 11/03/2010 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/17/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Nippon Shokubai Co., Ltd.
JP
Inventors
M. U. (pessoa física)
JP
S. N. (pessoa física)
JP
T. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
11-54316 · 03/02/1999
Abstract
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE ÁCIDO (MET) ACRÍLICO E/OU ÉSTERES (MET) ACRÍLICOS É fornecido um método para a produção de ácido (met) acrílico e/ou um éster (met) acrílico. Este método para a produção de ácido (met) acrílico e/ou um éster (met) acrílico inclui a lavagem do dispositivo construído para a produção do mesmo com uma solução básica e o subseqüentemente enxágüe do mesmo com um solvente, com a finalidade de retirar substâncias sólidas, tais como polímeros e precipitados, que ocorrem durante a produção de ácido (met) acrílico e/ou um éster (met) acrílico.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2451 de 26-12-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
04/17/2018
RPI 2467
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
12/26/2017
RPI 2451
#16.1
11/03/2010
RPI 2078
#9.1
01/26/2010
RPI 2038
#15.11
Alterado da Int. Cl: C07C 57/04; C07C 51/46; C07C 67/54
06/09/2009
RPI 2005
#7.1
06/09/2009
RPI 2005
#3.1
10/31/2000
RPI 1556
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