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PROCESSO PARA PRODUZIR UM PURINA NUCLEOTÍDEO, DNA, E, MICROORGANISMO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

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Application data

Number

PI0000323

Type

Invention Patent

Filing

02/07/2000

Publication

08/21/2001

View on INPI

Progress at the INPI

Filing02/07/00
Publication08/21/01
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/25/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd.

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Inventors

M. I. (pessoa física)

T. F. (pessoa física)

Y. T. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C12N 1/21 C12N 15/52 C12N 15/54 C12N 15/63 C12N 9/00 C12P 19/32

Priority claims

29738/99 · 02/08/1999

Abstract

"PROCESSO PARA PRODUZIR UM PURINA NUCLEOTÍDEO, DNA, E, MICROORGANISMO". A presente invenção fornece um processo para produzir um purina nucleotídeo, o qual compreende: cultivar em um meio um microorganismo tendo a capacidade de produzir um precursor do purina nucleotídeo e transportar um DNA introduzido que pode induzir e expressar uma enzima capaz de sintetizar o purina nucleotídeo a partir do dito precursor; permitir que dito precursor do purina nucleotídeo se acumule na cultura; induzir e expressar a enzima capaz de sintetizar o purina nucleotídeo a partir do dito precursor; permitir que o purina nucleotídeo formado do dito precursor se acumule na dita cultura; e, então, recuperar dela o referido purina nucleotídeo. Microorganismos úteis no dito processo também são fornecidos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho publicado na RPI 1962 de 12/08/2008.

02/25/2009

RPI 1990

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª, 7ª e 8ª anuidades.

08/12/2008

RPI 1962

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/21/2001

RPI 1598

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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