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Official data from INPI

TIJOLO CERÂMICO COM ALTA ADERÊNCIA

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU9002130

Type

Utility Model

Filing

03/26/2010

Publication

10/02/2012

Progress at the INPI

  1. Filing03/26/10
  2. Publication10/02/12
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/26/2010 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/01/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

E. M. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

E. M. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

TIJOLO CERAMICO COM ALTA ADERENCIA. O presente pedido de patente de invenção de modelo de utilidade, reporta- se a um tijolo de 8 furos utilizado em alvenaria de vedação que tem como diferencial dos demais, um conjunto de furos laterais, cuidadosamente calculados para facilitar a aderência da camada de emboço, sem aplicação de chapisco. Consiste, conforme figura 1, em um tijolo comum de 8 furos (1)sendo que nas laterais do mesmo é acrescentado um conjunto de furos (2) com disposição e inclinação previamente calculados de forma a fixar a argamassa da camada de emboço sem que tenha a necessidade de realizar a camada de chapisco. A introdução dos furos adicionais a parede do tijolo irá melhorar a aderência da camada de emboço (dispensando a etapa de chapisco) mesmo tempo irá homogeneizar o cozimento do tijolo.Não será necessário fazer modificações significativas nos tijolos já existentes, pois as dimensões de altura, largura e comprimento dos atuais tijolos não sofrerão alterações. Para implementar este novo processo produtivo, não será necessário modificar a linha de produção com esteiras predominantemente adotada pelo mercado atual.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

10/01/2013

RPI 2230

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

07/02/2013

RPI 2217

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/02/2012

RPI 2178

Pedido de patente depositado

#2.1

08/16/2011

RPI 2119

Patent monitoring

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