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Official data from INPI

LAMINADOR REFINADOR DE GRANDE LARGURA

Em AnáliseUtility Model

Application data

Number

MU9001496

Type

Utility Model

Filing

07/23/2010

Publication

12/11/2012

Progress at the INPI

  1. Filing07/23/10
  2. Publication12/11/12
  3. Examination
  4. Refused03/14/17
  5. Grant
  6. In force

The application was refused on 03/14/2017 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/14/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

M. R. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

M. R. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

LAMINADOR REFINADOR DE GRANDE LARGURA. Patente de Modelo de Utilidade para um laminador refinador de grande largura, que é compreendido por uma carcaça 1, onde são montados dois rolos cilíndricos 2, sendo que esses rolos tem sua largura 3 bem maior que seu diâmetro 4, isto é a largura 3 poderá variar de 50% a 300% maior que o diâmetro 4, os rolos 2 devido aos diâmetros 4 proporcionalmente bem menores que a largura 3, toman-se mais leves para os motores girarem consumindo menos energia, e a abertura de laminação 5, multiplicada pela largura 3 dos rolos, proporciona uma grande entrada e laminação da argila, conseguindo-se uma produção maior que outros laminadores.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

111

Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]

03/14/2017

RPI 2410

Petição de recurso

#12.2

02/02/2016

RPI 2352

Indeferimento

#9.2

Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) 9º, 14 e 25 da LPI

09/29/2015

RPI 2334

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

01/27/2015

RPI 2299

15.24.2

12/30/2014

RPI 2295

15.24

12/16/2014

RPI 2293

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/11/2012

RPI 2188

Pedido de patente depositado

#2.1

04/26/2011

RPI 2103

Patent monitoring

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