Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2156 de 02/05/2012.
10/02/2012
RPI 2178
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/02/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
J. G. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
J. G. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
DISPOSIÇÃO CONSTRUTIVA INTRODUZIDA EM VÁLVULA ANTI-RETORNO APLICADA EM ENVOLTÓRIO DE PEÇAS DE VESTUÁRIOS EM GERAL. Mais particularmente trata-se de uma válvula anti-retorno (1) utilizada para permitir a extração do ar contido no envoltório (E), ao mesmo tempo que impede o retorno do ar quando do término da operação, possibilitando a redução de volume e compressão do envoltório juntamente com as peças têxteis armazenadas; dito envoltório (E) apresenta um orifício (O) onde é acoplado, por meio de solda térmica ou outro meio conveniente, a válvula anti-retorno (1), sendo dito orifício (O) é praticado numa das paredes do envoltório (E), em lâmina plástica, cuja configuração aproxima-se, preferencialmente, a um saco (2) com paredes idênticas (2a) e (2b}, tenr'o um~ das bordas fechada por solda térmica ou outra, enquanto que a outra extremidade, oposta, configurada por uma abertura ou um bocal de acesso (2c), onde são dispostos meios de fechamento, preferencialmente do tipo fecho deslizante hermético (2d); dita válvula anti-retorno é composta de três partes complementares e encaixáveis entre si, sendo elas: um corpo principal (3), dotado de sede (S), onde é acoplada, centralmente, uma membrana flexível (4), enquanto que na parede periférica (3b) do corpo é acoplada uma tampa de vedação e proteção (5).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2156 de 02/05/2012.
10/02/2012
RPI 2178
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
05/02/2012
RPI 2156
#3.1
05/04/2010
RPI 2052
#2.1
03/17/2009
RPI 1993
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