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Official data from INPI

BISNAGA PARA SELANTE DE SILICONE OU DERIVADOS COM BASTÃO APLICADOR

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU8702402

Type

Utility Model

Filing

11/29/2007

Publication

07/28/2009

Progress at the INPI

  1. Filing11/29/07
  2. Publication07/28/09
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 11/29/2007 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/05/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

S. M. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

S. M. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

BISNAGA PARA SELANTE DE SILICONE OU DERIVADOS COM BASTÃO APLICADOR. Patente do modelo de utilidade para bisnaga para silicone ou derivados com bastão aplicador que é compreendido por tampa de bico dosador 1, bico dosador que é rosqueado na bisnaga cilíndrica para silicone 2, bisnaga onde em seu interior é preenchido com selante de silicone ou derivados 3, êmbulo de vedação que é empurrado para extrair o selante de silicone ou derivados 4, tampa dianteira do bastão aplicador apóia o êmbulo de vedação quando pressionado 5, tampa traseira com rosca no seu interior que fecha a bisnaga cilíndrica de silicone e receba o bastão aplicador 6, travas da tampa traseira que se fixa na bisnaga para silicone ou derivados 7, bastão aplicador que é rosqueado na tampa traseira e tem a função de empurrar a tampa dianteira que apóla o êmbulo de vedação quando gira sentido horário com a finalidade de avançar e extrair silicone ou derivados 8.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

07/05/2011

RPI 2113

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

03/22/2011

RPI 2098

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/28/2009

RPI 2012

Pedido de patente depositado

#2.1

02/12/2008

RPI 1936

Patent monitoring

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